原料汽化：將高純度四氯化硅（SiCl?，純度≥99.99%）加熱至 100-150℃汽化，與干燥的空氣（或氧氣）、氫氣按比例混合（氫氣作為燃料，空氣作為氧化劑）。

高溫反應：混合氣體通入高溫水解爐（溫度 1000-1200℃），發生反應：SiCl? + 2H? + O? → SiO? + 4HCl，生成的二氧化硅以極細的氣態顆粒形式存在。

冷卻與收集：反應產物進入冷卻器（溫度降至 200-300℃），氣態二氧化硅顆粒逐漸團聚成納米級粉末，再通過袋式過濾器收集。

脫酸與改性：收集的粉末需經過脫酸處理（去除殘留的 HCl，避免牙膏 pH 值異常），部分產品還需進行表面改性（如用硅烷偶聯劑處理，提升與牙膏中油脂成分的相容性）。

質量檢測與包裝：同沉淀法，重點檢測粒徑分布（10-50nm）、比表面積（300-600m2/g）及純度（SiO?≥99.8%），確保符合高端牙膏需求。